光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的一种对光特别敏感的混合液体，别名为“光致抗蚀剂”。光刻胶对光非常敏感，透过光线，其化学特性就会发生变化，因此把光刻胶涂敷在硅基片上，再经过曝光、显影、刻蚀等工艺，就可以将设计好的图形复刻到硅基片上，因此光刻胶成为了光电信息产业中图形复刻加工技术中的关键性材料，在其行业内得到了广泛的应用。

随着电子工业中集成电路技术的不断发展，芯片器件的特征尺寸在不断的减小，芯片的集成度越来越高，同时体积也越来越小。作为我国科技界的龙头企业——华为，其自研的麒麟系列芯片现在已经达到了5nm的制程，芯片上集成了150多亿个晶体管。光刻胶的质量和性能对于芯片的光刻工艺有着重要的影响，从最初一块芯片上集成2000个晶体管到现在能集成150亿个晶体管，实现这种爆炸式的性能突破最关键的就是光刻胶材料也在同步发展，只有光刻胶的性能达标，下游产业链才能有更好的发展。

众所周知，光刻胶在半导体芯片领域有着无法替代的重要性，故在光刻胶发明之后，首先进入了军事领域，运用到国防高科技设备的加工制作，因此在20世纪90年代时，发达国家一直将光刻胶作为战略物资进行控制，对光刻胶的制作工艺进行技术封锁，甚至将光刻胶列为禁运品。到目前为止，高端的光刻胶仍然是发达国家的管控对象。