您现在的位置：首页 → 行业应用
在微电子制造中，光刻胶主要用于制作芯片中的电路板图案。先在芯片表面上涂覆上光刻胶，然后将芯片与掩膜模板对准并曝光。曝光后，光刻胶会发生化学反应，并固化成为一个精确的光刻图案。通过光刻胶的转移，能够将图案精确地转移到芯片表面上，从而形成完整的电路板图案。
在半导体制造中，光刻胶的应用也非常广泛。通过涂覆光刻胶、曝光、显影等步骤，可以制作出非常精细的半导体器件结构图案。这些器件结构图案能够用于制造集成电路、光通信器件等。
在光学设备制造中，光刻胶主要用于制作各种光柱、光阱、透镜等微结构。通过涂覆光刻胶，使用激光光刻等方法，在材料表面上制作出各种精细的光学结构图案。这些光学结构不仅广泛应用于光学传感器、显示器件等领域，也用于制作各种微型光学元件。
光刻胶还广泛应用于图形显示器件制造、生物芯片制造、MEMS（微电子机械系统）器件制造等领域。
扫一扫关注官方微信
138 2528 7864
